激光剥蚀进样-光谱元素分析系统

  • 工作原理
           激光剥蚀技术LA及激光诱导击穿光谱LIBS相结合,J200接收等离子体发射光进行快速光谱分析,同时将激光剥蚀颗粒高效传输至ICP-MS系统。
    主要特点
    • J200具有LA和LIBS双系统测量能力,可以单独运行LA或LIBS,或者同时运行LA-LIBS复合系统。激光fs或ns可选。
    • 样品自动对焦、高度自动调整、光斑大小调节。
    • 可对固、液、气样品进行全元素LIBS快速检测,同时可将固体样品的剥蚀颗粒或者液体样品直接送入ICP-MS系统,实现ppb级精确分析。
    • 可用于分析元素周期表中的所有元素。
    • ASI数据分析软件可在一个数据分析平台进行,分析LIBS和LA数据;可进行快速映射功能。
    应用领域
    • 复杂样本的定性和定量分析
    • 制造质量控制:制药、生物技术、电子、太阳能、薄膜等
    • 污染控制
    • 土壤、植物和矿物分析
    • 玻璃、油漆和其他痕迹证据的法医分析
    • 材料来源确定
    • 学术界、政府和商业企业研究和实验室分析
    性能指标

           激光系统
    • 最大能量:25mJ@266nm;能量输出0-100%可调
    • 重现率:20Hz,脉宽6ns(FWHM),DI水冷却系统
    • 能量控制:光学衰减连续可变
    • 光斑大小控制:35-250微米可调(到达样品表面的烧蚀光斑直径)
    • 激光光闸:自动双光闸,稳定控制激光能量和LIBS信号测量
    • 激光安全:I级,样品放置区域有滤光器,有激光锁定保护

           检测器系统
    • 谱宽190-1040 nm
    • 测量过程不不受环境温度变化的影响
    • 分辨率λ/Δλ高达6000
    • 光谱精度优于±0.05nm
    • 杂散光抑制
    • 探测器门控
    • 门延时为0.5ns-1ms
    • 分辨率0.5ns

           样品平台系统
    • 全自动XYZ行程
    • XY行程100mmx100mm,Z行程35mmXY
    • 行程分辨率0.2um,Z行程分辨率0.2um
    • XY行程重现率0.2um,Z行程重现率0.2um
    • 速度0.001-20mm/s
    • 气压可控
    • 样品放置区域有滤光器,有激光锁定保护功能含高效空气颗粒清洁器
    • 具备专配670纳米激光协助样品高度自动调整功能
    • 双CMOS相机,广角用于定位采样区域,高倍成像用于观察某一特定区域。并可在电脑屏幕上实时观察样品烧蚀过程
    • 样品池-可充氦气或氩气惰性气体保护;锂电池样品需要保持在无水,无氧的条件下进行测量。测量碳,氮,氧,氢,氟等元素时;样品池需要保持在氦气气氛中。

           操作软件
    • 激光自动采样设置
    • 单点、网格、光栅状、线性扫描或用户自定义设置
    • 数据处理系统
    • 包含谱线自动识别功能、光谱处理功能、LIBS的强度监测、化学统计功能等
    • 元素制图及深度分析控制
    • 包含84种元素的Trulibs 光谱数据库和LIBS
    • NIST理论数据库(涵盖所有元素)
    • 设置预脉冲个数用来清洗样品表面污染物
    • 高度自动化的测量功能
    • 元素特征线的自动标定、标准曲线建立(单变量和多变量校准曲线)、主成分回归功能可用于样品分类